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申请/专利权人：苏州泽贤霖科技有限公司
摘要：本发明公开了一种基于非晶合金的凸起微纳特征加工工艺，涉及精加工技术领域，该工艺的具体步骤为：S100，金属表面抛光：将金属基体模具进行表面抛光至纳米级别，S200，光刻胶涂覆：在金属基体上利用匀胶机涂覆一层均匀的光刻胶，形成光刻胶层，本发明采用等离子束和磁控溅射技术，有效激活非晶合金靶材，并实现了在金属基体上均匀喷涂形成凸起微纳特征，不仅提高了非晶合金涂层与金属基体之间的结合力，还通过后续的加热处理促进了非晶合金的晶化，进一步增强了涂层的硬度和耐磨性，延长了微纳器件的使用寿命，并拓宽了其应用领域。
主权项：1.一种基于非晶合金的凸起微纳特征加工工艺，其特征在于，该工艺的具体步骤：S100，金属表面抛光：将金属基体模具进行表面抛光至纳米级别；S200，光刻胶涂覆：在金属基体上利用匀胶机涂覆一层均匀的光刻胶，形成光刻胶层；S300，曝光技术形成凹槽：利用曝光技术在光刻胶表面形成所设计的凹槽图案，这些凹槽图案将作为后续喷涂非晶合金的模板；S400，非晶合金靶材的激活与喷涂：通过磁控溅射方式激活非晶合金靶材，使得金属基体上曝光出来的结构被喷涂形成均匀的凸起微纳特征；S500，光刻胶的去除与后处理：使用甲苯和丙醇有机溶剂洗去光刻胶，露出完整的凸起微纳特征结构；S600，质量检测与评估：对金属微纳器件进行加热处理，使非晶合金晶化，从而提高涂层与基体之间的结合力。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州泽贤霖科技有限公司 一种基于非晶合金的凸起微纳特征加工工艺
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