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申请/专利权人:云南师范大学
摘要:本发明属于光成像技术领域,公开了一种MoTe2CdS0.42Se0.58薄片异质结光电探测器及制备方法,该器件包括MoTe2CdS0.42Se0.58薄片异质结;所述CdS0.42Se0.58薄片包括:Cd、S和Se。本发明制备了一个基于少层MoTe2CdS0.42Se0.58薄片异质结的高性能光电探测器。该光电探测器的高响应率为7221AW,电流的开态与关态比为1.73×104,快速响应速度为90120μs,外量子效率EQE最高可达1.52×106%和探测率D*达到1.67×1015Jonse。通过光电流映射测试和第一性原理计算,分析了异质结光电探测器的优异性能。在MoTe2CdS0.42Se0.58上成功地获得了可见光成像功能,这表明该器件具有实际的成像应用前景,本研究结果为基于超高性能光电探测器MoTe2的设计提供了参考。
主权项:1.一种少层的MoTe2CdS0.42Se0.58薄片异质结光电探测器,其特征在于,包括MoTe2CdS0.42Se0.58薄片异质结;所述CdS0.42Se0.58薄片包括:Cd、S和Se;制备所述的少层的MoTe2CdS0.42Se0.58薄片异质结光电探测器的制备方法,包括:S1:CdS0.42Se0.58薄片的制备;S2:MoTe2CdS0.42Se0.58异质结光电探测器的制备;S3:第一性原理的计算;MoTe2CdS0.42Se0.58薄片异质结的制备方法,所述S1具体包括:S11:将纯度为99.99%的高纯度硫化镉和硒化镉粉末以1:1的摩尔比组合在陶瓷船中;S12:将混合物放置在石英管内的中心蒸发区;S13:将硅晶片切成测量1.5×1.0cm2的薄片,并浸泡在含有丙酮的烧杯中;在丙酮溶液中进行超声波清洗10分钟后,再用乙醇和去离子水清洗10分钟;清洗过程后,在二氧化硅衬底上喷金颗粒,并把衬底放置在石英管的上游和下游区域;S14:将石英管引入管状炉,温度以5.6℃min的速率逐渐提高至835℃;在17sccm的流量下,系统以95:5为比例的Ar:H2气体混合物在此温度下保持150分钟;S15:待管式炉自然冷却到室温,就获得CdS0.42Se0.58片状物,少层MoTe2薄片采用机械剥离法得到;MoTe2CdS0.42Se0.58薄片异质结光电探测器,所述S2具体包括:S21:利用电子束蒸发设备将Cr和Au依次沉积在清洁的二氧化硅衬底上,形成通道长度为5μm的电极;MoTe2薄片通过二维材料转移系统转移到金电极上;S22:制备了CdS0.42Se0.58薄片,将薄片浸泡在乙醇溶液中,然后滴加到另一个干净的二氧化硅衬底上,CdS0.42Se0.58在乙醇蒸发后,薄片仍留在衬底上;S23:CdS0.42Se0.58薄片从初始衬底上分离,使用PDMS薄膜转移在MoTe2薄片的上方,从而完成了异质结的构造。
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百度查询: 云南师范大学 MoTe2/CdS0.42Se0.58薄片异质结光电探测器及制备方法
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