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申请/专利权人：季华实验室
摘要：本公开涉及一种掩膜组件、蒸镀设备和蒸镀方法，其中，掩膜组件，包括至少一个掩膜框和设置在所述掩膜框的承载面上的掩膜片；所述掩膜框包括掩膜边框和位于所述掩膜边框围绕区域内的至少一个支撑梁；所述支撑梁的承载面与所述掩膜框的承载面平齐。本公开可以减小掩膜片受重力产生变形的问题，适用于各种尺寸的掩膜片，提高目标基板的对位准确度，提升蒸镀效果。
主权项：1.一种掩膜组件，其特征在于，包括至少一个掩膜框和设置在所述掩膜框的承载面上的掩膜片；所述掩膜框包括掩膜边框和位于所述掩膜边框围绕区域内的至少一个支撑梁；所述支撑梁的承载面与所述掩膜框的承载面平齐；所述掩膜框上设置有多列依次排布的所述掩膜片；所述掩膜片的延伸方向平行于所述支撑梁的延伸方向；同一所述掩膜框的相邻两列所述掩膜片边缘的一部分以及间隙与所述支撑梁重叠；所述掩膜片的边缘固定在所述支撑梁和或所述掩膜边框上；同一所述掩膜框的相邻两列所述掩膜片的间隙处设置有垫片；所述垫片位于所述支撑梁上；所述支撑梁的承载面设置有沟槽；所述掩膜片固定在所述沟槽中；所述支撑梁内设置有恒温液管道。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 季华实验室 一种掩膜组件、蒸镀设备和蒸镀方法
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