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一种处理液供给方法及其应用装置 

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申请/专利权人:合肥开悦半导体科技有限公司

摘要:本发明公开了一种处理液供给方法及其应用装置,包括如下步骤:步骤A:泵体抽取容器瓶内侧的处理液输送至过滤器,过滤器对处理液过滤;步骤B:过滤后输送至分配阀,分配阀将处理液供给至喷嘴;其中,在步骤B中分配阀停止供给时,分配阀的阀门靠近阀体时降低速度;分配阀开始供给时,分配阀的阀门开启速度由慢速到快速;本专利便于以一个由快减慢的速度使阀门与阀体接触,使得阀门与阀体的冲击力较小,从而降低处理液中混入的颗粒杂质,避免使用恒定的速率或过快开合阀门速度来控制分配阀,易产生颗粒杂质,本专利可以很好的降低处理液在输送供给时产生的颗粒杂质,有效保障处理液的洁净程度。

主权项:1.一种处理液供给方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤A:泵体抽取容器瓶内侧的处理液输送至过滤器,过滤器对处理液过滤;步骤B:过滤后输送至分配阀,分配阀将处理液供给至喷嘴;其中,在步骤B中分配阀停止供给时,分配阀的阀门靠近阀体时降低速度;分配阀开始供给时,分配阀的阀门开启速度由慢速到快速。

全文数据:

权利要求:

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