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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：披露一种成像方法，包括：获得与用于捕获图像的光学系统相关的一组初级解卷积核或一组脉冲响应；获得所述图像信号，所述图像信号经受包括至少一个或更多个非等晕成像效应的一个或更多个成像效应；对所述一组初级解卷积核或所述一组脉冲响应执行低秩近似以分别确定一组解卷积模态或一组脉冲响应模态，每个解卷积模态包括模态次级解卷积核和模态权重函数且每个脉冲响应模态包括模态脉冲响应和模态逆权重函数；通过将所述模态次级解卷积核和模态权重函数或所述模态脉冲响应和模态逆权重函数应用于所述图像信号而获得与所述对象相关的至少近似的无成像效应的对象信息。
主权项：1.一种成像方法，包括：获得与用于捕获图像的光学系统相关的一组初级解卷积核或一组脉冲响应，其中，所述一组初级解卷积核中的每个初级解卷积核与对象的相应的对象点相关，并且所述一组脉冲响应中的每个脉冲响应与图像信号的相应的图像点相关；获得与所述对象相关的所述图像信号，所述图像信号经受一个或更多个成像效应，所述成像效应包括至少一个或更多个非等晕成像效应；对所述一组初级解卷积核或所述一组脉冲响应执行低秩近似以分别确定一组解卷积模态或一组脉冲响应模态，每个解卷积模态分别包括模态次级解卷积核和模态权重函数，且每个脉冲响应模态包括模态脉冲响应和模态逆权重函数；以及通过将所述模态次级解卷积核和模态权重函数或所述模态脉冲响应和模态逆权重函数应用于所述图像信号而获得与所述对象相关的至少近似的无成像效应的对象信息。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 成像方法和量测装置
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