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申请/专利权人：浙江创芯集成电路有限公司
摘要：一种掩膜图形的生成方法及掩膜图形的生成装置，其中方法包括：获取待修正版图，所述待修正版图包括多个绘图区域，所述绘图区域适宜于进行测试图形绘制，其中多个绘图区域分别为第1绘图区域、第2绘图区域、……、第n绘图区域，其中n为大于等于1的正整数；逐个对多个所述绘图区域进行图形检测以判断所述绘图区域是否具有测试图形；当第i绘图区域不具有测试图形时，将第i+1绘图区域的测试图形绘制至第i绘图区域，删除第i+1绘图区域的测试图形。所述方法避免了绘图区域不存在测试图形但占用绘图区域的问题，降低了修正后版图的留空率，使得各个绘图区域内均填满测试图形，减少了对掩膜面积的浪费，减少了掩膜的制作成本。
主权项：1.一种掩膜图形的生成方法，其特征在于，包括：获取待修正版图，所述待修正版图包括多个绘图区域，所述绘图区域适宜于进行测试图形绘制，其中多个绘图区域分别为第1绘图区域、第2绘图区域、……、第n绘图区域，其中n为大于等于1的正整数；逐个对多个所述绘图区域进行图形检测以判断所述绘图区域是否具有测试图形；当第i绘图区域不具有测试图形时，将第i+1绘图区域的测试图形绘制至第i绘图区域，删除第i+1绘图区域的测试图形。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江创芯集成电路有限公司 掩膜图形的生成方法及掩膜图形的生成装置
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