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一种低损耗率的铱溅射靶材制备方法及铱溅射靶材 

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申请/专利权人:有研亿金新材料有限公司;有研亿金新材料(山东)有限公司

摘要:本发明属于贵金属溅射靶材技术领域,具体涉及一种低损耗率的铱溅射靶材制备方法及铱溅射靶材。本发明采用真空高频感应加热炉进行铱片熔炼,熔炼开始前抽出腔体内气体,并充入保护性气体始终保持7×104Pa‑9×104Pa,避免熔体直接接触空气发生氧化,同时充入保护性气体减少熔体烧损。本发明对定向凝固得到的铸锭进行热处理,严格控制铸锭表面温度小于1450℃,控制铸锭表面活性,保证不易发生氧化,在轧制过程中持续通入保护性气体覆盖铸锭表面,减少铸锭表面与氧气和氮气接触,进而控制最终成品反应层厚度,降低机加工车削量,进而控制损耗率低于1‰。

主权项:1.一种低损耗率的铱溅射靶材制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1熔炼:将纯度不低于4N的铱片加入真空高频感应加热炉中,先抽真空到9×10-4Pa-9×10-3Pa,再充入保护性气体至真空度为7×104Pa-9×104Pa,在2500-2700℃温度中熔炼,得到铱熔体;2精炼:采用真空高频感应加热炉持续对铱熔体加热,保持熔体温度为2600-2700℃,并开启电磁搅拌;3定向凝固:使用底部接入冷却水的水冷模具进行铱熔体浇铸,浇铸工艺为:先以5-8cm3s的速率浇铸到水冷模具的15-13处;然后减慢浇铸速度至3-5cm3s,浇铸到水冷模具25-35处;再以1-2cm3s的速率缓慢浇铸,待浇铸完成并冷却后,得到铸锭;4分切:对铱铸锭进行分切得到铱靶坯;5轧制:将分切好的铱靶坯放入气氛热处理炉中,通入还原性气氛,加热到1100-1450℃,保温0.5-2h;然后进行3-6道次轧制,轧制过程中持续通入保护性气体覆盖铱靶坯表面,轧制结束后获得高致密高取向的铱靶材半成品;6还原:将铱靶材半成品放入气氛热处理炉中,通入还原性气氛,加热到300-600℃,保温0.5-1h,随炉冷却后取出;7机加工:将还原后的铱靶材半成品进行机加工得到所述铱溅射靶材,所述铱溅射靶材相较于步骤1中铱片的质量损耗率<1‰。

全文数据:

权利要求:

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