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申请/专利权人：中国科学院上海硅酸盐研究所;慈溪生物材料表面工程中心
摘要：本发明公开一种离子同极溅射镀膜装置及方法。所述离子同极溅射镀膜装置的靶材与基体设置于阴极同一极，且阴极连接负电压电源；所述装置包括：内设有等离子源的真空室；所述真空室的外壳接地；作为阴极的样品台；等离子源；真空装置；真空室的腔体与所述真空装置和气体源相互连通；气体源；通过阀门控制气体源的流量；靶材；所述靶材设置于样品台上，与样品台直接接触导电；负电压电源；所述负电压电源与样品台连接；伺服电机；控制器；所述控制器控制伺服电机转动、负电压电源电压调节、气体源流量调节、真空装置抽真空和等离子源功率。该装置设计靶材与基体同处一极，不仅能够实现绝缘体溅射镀膜，而且可以同时提高溅射产率和沉积速率。
主权项：1.一种离子同极溅射镀膜装置，其特征在于，所述离子同极溅射镀膜装置的靶材与基体设置于阴极同一极，且阴极连接负电压电源；所述装置包括：内设有等离子源的真空室；所述真空室的外壳接地；作为阴极的样品台；所述样品台设置在真空室底部，连接负电压电源，并被伺服电机驱动旋转；等离子源；所述等离子源设置于样品台上方，并与控制器连接；真空装置；真空室的腔体与所述真空装置和气体源相互连通；气体源；通过阀门控制气体源的流量；靶材；所述靶材设置于样品台上，与样品台直接接触导电；负电压电源；所述负电压电源与样品台连接；伺服电机；所述伺服电机分别与样品台和控制器连接，伺服电机在控制器的控制下带动样品台、靶材以设定速度运动；控制器；所述控制器控制伺服电机转动、负电压电源电压调节、气体源流量调节、真空装置抽真空和等离子源功率。
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权利要求：
百度查询： 中国科学院上海硅酸盐研究所 慈溪生物材料表面工程中心 一种离子同极溅射镀膜装置及方法
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