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申请/专利权人：华融化学股份有限公司
摘要：本发明公开了一种用于列管式反应器的气液分布结构及列管反应器,涉及化工设备技术领域，包括由上至下间隔排布的上底板、下底板和上管板，上底板、下底板和上管板的中心均在同一垂直线上，上底板与下底板上共同安装有供液相流动的降液管，下底板上安装有供气相流通的气相分布管，上管板上安装有列管，且降液管上端贯穿上底板，降液管下端延伸至上管板上方，气相分布管上端贯穿下底板，气相分布管下端延伸至列管内。本发明使液相单独通过降液管下液，气相单独通过气相分布管直接进入到列管内，使气相通过气相分布管直接进入到列管内，避免液相与气相在未进入列管前就开始反应，从而有效防止列管进口处产生结晶，避免造成列管堵塞。
主权项：1.一种用于列管式反应器的气液分布结构，其特征在于，包括由上至下间隔排布的上底板1、下底板2和上管板11，上底板1、下底板2和上管板11的中心均在同一垂直线上，上底板1与下底板2上共同安装有供液相流动的降液管3，下底板2上安装有供气相流通的气相分布管4，上管板11上安装有列管12，且降液管3上端贯穿上底板1，降液管3下端延伸至上管板11上方，气相分布管4上端贯穿下底板2，气相分布管4下端延伸至列管12内；所述上管板11上还安装有造膜管13，且造膜管13下端与列管12上端连接；所述气相分布管4上端靠近上底板1；所述上底板1和下底板2上还共同安装有气相平衡管5，气相平衡管5上端贯穿上底板1向上延伸，且气相平衡管5上还开设有第二气相平衡气孔62，第二气相平衡气孔62位于上底板1上方；所述气相平衡管5上端还安装有弧形分布盘7，且弧形分布盘7的边缘靠近上底板1的上表面；所述气相平衡管5的顶部还安装有盖帽8，且盖帽8位于弧形分布盘7上方；所述气相平衡管（5）上还开设有第一气相平衡气孔（61），第一气相平衡气孔（61）位于弧形分布盘（7）与盖帽（8）之间；所述上底板1的上表面还安装有圆形挡圈9，圆形挡圈9外径小于弧形分布盘7外径。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华融化学股份有限公司 一种用于列管式反应器的气液分布结构及列管式反应器
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