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申请/专利权人：株式会社新柯隆
摘要：本发明提供一种含有硅和氧的薄膜，其能够在短时间内提高含氟化合物的薄膜的密合性。一种含有硅和氧的薄膜，其含有硅、氧和铌，通过使用了X射线光电子能谱法的原子数测定得到的上述铌与上述硅的原子数比NbSi为0％～25％不含两端点值。
主权项：1.一种含有硅和氧的薄膜，其含有硅、氧和铌，通过使用了X射线光电子能谱法的原子数测定得到的所述铌与所述硅的原子数比即NbSi为0％～25％，该比值不含两端点值。
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