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阵列基板、阵列基板的制备方法及显示面板 

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申请/专利权人:惠科股份有限公司

摘要:本申请提供的一种阵列基板、阵列基板的制备方法及显示面板,通过设计基底层设于基板上,基底层具有多个开口区;有机发光单元设于开口区;水氧吸收结构的至少部分设于基底层中,且邻近有机发光单元设置,水氧吸收结构用于吸收有机发光单元中有机层产生水汽及阻挡外界水汽进入有机发光单元,进而避免有机发光单元的电极与水汽及氧气发生反应;也避免有机发光单元中空穴传输层、电子传输层等膜层与氧气及水汽发生反应,造成显示面板中OLED器件的失效,提高OLED器件的稳定性。

主权项:1.一种阵列基板,其特征在于,包括:基板;基底层,所述基底层设于所述基板上,所述基底层具有多个开口区;有机发光单元,设于所述开口区;及至少一个水氧吸收结构,所述水氧吸收结构的至少部分设于所述基底层中,且邻近所述有机发光单元设置,所述水氧吸收结构用于吸收所述有机发光单元中有机发光层产生水汽及阻挡外界水汽进入所述有机发光单元。

全文数据:

权利要求:

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