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一种保证复制光栅过程中垂直度的装置与方法 

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申请/专利权人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

摘要:本发明涉及光学器件精密制造技术领域,具体公开了一种保证复制光栅过程中垂直度的装置与方法,包括光学平台、激光装置、分离夹具、反射装置和观测装置,光学平台沿水平方向设置;激光装置设置于光学平台上,用于发射激光;分离夹具沿第一方向设置于激光装置前方,用于夹持母版光栅,以使激光装置发射的激光能够照射到母版光栅;反射装置设置于光学平台上,用于反射母版光栅的反射光线,以使反射光线能够垂直照射回母版光栅;观测装置沿第一方向设置于分离夹具前方,用于观测母版光栅的各级次衍射光斑。由此,能够在不影响光栅复制过程和复制光栅指标的情况下,可靠稳定地提高光栅刻线与底面基准面之间的垂直度,简单便于操作。

主权项:1.一种保证复制光栅过程中垂直度的装置,其特征在于,包括:光学平台1,所述光学平台1沿水平方向设置;激光装置2,所述激光装置2设置于所述光学平台1上,所述激光装置2用于发射激光;分离夹具3,所述分离夹具3沿第一方向设置于所述激光装置2前方,所述分离夹具3用于夹持母版光栅6,以使所述激光装置2发射的激光能够照射到所述母版光栅6;反射装置4,所述反射装置4设置于所述光学平台1上,所述反射装置4用于反射所述母版光栅6的反射光线,以使所述反射光线能够垂直照射回所述母版光栅6;观测装置5,所述观测装置5沿第一方向设置于所述分离夹具3前方,所述观测装置5用于观测所述母版光栅6的各级次衍射光斑。

全文数据:

权利要求:

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