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申请/专利权人：SK纳力世有限公司
摘要：本发明的一实施例提供一种电解铜箔，包括铜层，所述电解铜箔具有0.8至12.5的谷平均粗糙度ValleyMeanRoughness，0.49至1.28的220面的结构系数[TC220]，25至51kgfmm2的抗拉强度，以及3％以下的宽度方向重量偏差。
主权项：1.一种电解铜箔，其中，包括铜层，所述电解铜箔具有：0.8至12.5的谷平均粗糙度；0.49至1.28的220面的结构系数[TC220]；25至51kgfmm2的抗拉强度；以及3％以下的宽度方向重量偏差，所述宽度方向重量偏差由下述式1计算，所述谷平均粗糙度由下述式2计算，所述220面的结构系数[TC220]如下计算，即，通过在30°至95°的衍射角2θ范围内进行X射线衍射法XRD来获得具有与n个晶面相对应的峰的XRD谱图，并从该XRD谱图求得各晶面hkl的XRD衍射强度[Ihkl]，求得由粉末衍射标准联合委员会JCPDS规定的标准铜粉末的n个所述晶面中的每一个的XRD衍射强度[I0hkl]，求得n个所述晶面的IhklI0hkl的算术平均值，然后通过将220面的I220I0220除以所述算术平均值，由下述式3计算所述220面的结构系数[TC220]，在所述X射线衍射法中，靶材为铜Kα1，2θ间距为0.01°，2θ扫描速度为3°min，所述n为4：式1宽度方向重量偏差％＝重量的标准偏差重量的算术平均×100式2谷平均粗糙度VMR＝[粗糙度轮廓的最大谷深Rv][表面粗糙度Ra]式3
全文数据：
权利要求：
百度查询： SK纳力世有限公司 能防止撕裂或褶皱不良的电解铜箔及其制法、包括电解铜箔的电极以及包括电极的二次电池
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