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摘要:本发明提供一种具有叠层多晶硅的隧穿氧化物钝化接触结构及其制备方法,隧穿氧化物钝化接触结构包括设置在晶硅衬底上的纳米氧化硅薄膜,以及交替设置在所述纳米氧化硅薄膜上的掺磷多晶硅薄膜和多元素掺杂多晶硅薄膜,所述多元素掺杂多晶硅薄膜中掺杂有磷元素和功能元素,所述功能元素选自碳、氮、氧中的一种或多种,所述掺磷多晶硅薄膜的数量为n层,所述多元素掺杂多晶硅薄膜的数量为m层,n≥2,m≥1,且1≥n‑m≥‑1。本发明提出一种创新的隧穿氧化物钝化接触结构,通过增加含有碳氮氧元素的多晶硅插入层,可以有效阻止金属浆料烧穿,降低金属化区域复合电流,提高电池的开路电压。
主权项:1.一种具有叠层多晶硅的隧穿氧化物钝化接触结构,其特征在于,包括设置在晶硅衬底上的纳米氧化硅薄膜,以及交替设置在所述纳米氧化硅薄膜上的掺磷多晶硅薄膜和多元素掺杂多晶硅薄膜,所述多元素掺杂多晶硅薄膜中掺杂有磷元素和功能元素,所述功能元素选自碳、氮、氧中的一种或多种,所述掺磷多晶硅薄膜的数量为n层,所述多元素掺杂多晶硅薄膜的数量为m层,n≥2,m≥1,且1≥n-m≥-1。
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百度查询: 中科研和(宁波)科技有限公司 一种具有叠层多晶硅的隧穿氧化物钝化接触结构及其制备方法
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