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摘要：公开了形成包括硅锗氧化物光致抗蚀剂底层的结构的方法以及包括光致抗蚀剂底层的结构。该方法还可以包括形成钝化层和或粘附层。
主权项：1.一种形成包括光致抗蚀剂底层的结构的方法，该方法包括以下步骤：在反应室内提供包括衬底表面的衬底；并且使用第一循环沉积过程，形成覆盖衬底表面的光致抗蚀剂底层，其中，光致抗蚀剂底层包含硅锗氧化物。
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百度查询： ASMIP私人控股有限公司 包括硅锗氧化物光致抗蚀剂底层的结构及其形成方法
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