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摘要：一种OPC模型的建立方法及装置、光学临近修正方法和设备、可读存储介质，所述建立方法包括：形成半导体结构，所述半导体结构具有图形化光刻胶；根据所述半导体结构，获得所述图形化光刻胶中图形的轮廓；对所述图形化光刻胶中图形的轮廓进行测量，获得轮廓测量值；根据所述轮廓测量值，建立OPC模型。与直接对图形化光刻胶的图形进行量测而获得的显影后量测数据相比，本发明技术方案，能够有效提高测量精度，获得高精度的轮廓测量值，从而能够有效减小所建立OPC模型的误差，有利于提高OPC模型的建立效率，有利于提高光学临近修正方法的修正精度。
主权项：1.一种OPC模型的建立方法，其特征在于，包括：形成半导体结构，所述半导体结构具有图形化光刻胶；根据所述半导体结构，获得所述图形化光刻胶中图形的轮廓；对所述图形化光刻胶中图形的轮廓进行测量，获得轮廓测量值；根据所述轮廓测量值，建立OPC模型。
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百度查询： 浙江创芯集成电路有限公司 OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质
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