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基板处理装置和基板处理方法 

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摘要:本申请公开了一种用于处理基板的装置和方法,更具体地公开了一种用于对基板进行热处理的装置和方法。该装置包括:加热单元,该加热单元设置在内部空间中并且设置有在其中执行基板的加热工艺的处理空间;传送板,该传送板定位在内部空间内,并且在内部位置与外部位置之间是移动性的,所述内部位置用于将基板装载到处理空间中或用于从处理空间中卸载基板,所述外部位置设置在加热单元的外侧;以及气体注入单元,该气体注入单元定位在内部空间内,并且用于在外部位置处向基板注入大气气体。

主权项:1.一种用于处理基板的装置,其中,所述装置包括:壳体,所述壳体设置有内部空间;加热单元,所述加热单元设置在所述内部空间中,并且设置有在其中执行所述基板的加热工艺的处理空间;传送板,所述传送板定位在所述内部空间内,并且在内部位置与外部位置之间是移动性的,所述内部位置用于将所述基板装载到所述处理空间中、或用于从所述处理空间卸载所述基板,所述外部位置设置在所述加热单元的外侧;以及气体注入单元,所述气体注入单元定位在所述内部空间内,并且用于在所述外部位置处向所述基板注入大气气体。

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