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一种半导体薄膜沉积用前驱体升华装置及方法 

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摘要:本发明提供了一种半导体薄膜沉积用前驱体升华装置及方法,属于物质分离装置领域。本发明提供的半导体薄膜沉积用前驱体升华装置,包括:流化部,其至少具有一个用于容纳待升华物料的流化桶,用于使待升华物料处于流化状态,流化桶具有一个入口和一个出口;进气部,设置在流化部的入口处,用于向流化桶通入气体,轻组分沉积部,其与流化部连通;收集部,包括用于收集目标物料的收集桶,收集桶通过带有至少一个阀门的连接管与流化部连通,收集桶内部设置有一个用于与外部真空源相连通的真空管。本发明提供的升华装置可以提升升华效率。

主权项:1.一种半导体薄膜沉积用前驱体升华装置,其特征在于,包括:流化部,其至少具有一个用于容纳待升华物料的流化桶,用于使所述待升华物料处于流化状态,所述流化桶具有一个入口和一个出口;进气部,设置在所述流化部的入口处,用于向所述流化桶通入气体;轻组分沉积部,其与所述流化部连通;以及收集部,包括用于收集目标物料的收集桶,所述收集桶通过带有至少一个阀门的连接管与所述流化部连通,所述收集桶内部设置有一个用于与外部真空源相连通的真空管,其中,所述轻组分沉积部包括:轻组分沉积管;进料管,设置在所述轻组分沉积管的一端,与所述轻组分沉积管连通,用于向所述轻组分沉积管通入清洗液或载气;以及出料管,设置在所述轻组分沉积管上且远离所述进料管的一端,与所述轻组分沉积管连通,用于排出清洗液或载气。

全文数据:

权利要求:

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