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摘要：本公开提供了一种量子点膜层图案化方法、量子点发光器件，属于显示技术领域。该量子点膜层图案化方法，包括：于基底100的一侧形成量子点材料层200；于量子点材料层200远离基底100的一侧形成有机材料层300，有机材料层300在紫外波段和可见光波段的透过率不小于80％；曝光基底100的预设区域，使得位于预设区域的量子点材料层200中的材料发生交联或生成不溶于显影液的盐，或和使得位于预设区域的有机材料层300中的材料发生交联；去除基底100的非预设区域的有机材料层300和量子点材料层200，以在曝光时，有助于减缓量子点材料层的PLQY降低。
主权项：一种量子点膜层图案化方法，包括：于基底的一侧形成量子点材料层；于所述量子点材料层远离所述基底的一侧形成有机材料层，所述有机材料层在紫外波段和可见光波段的透过率不小于80％；曝光所述基底的预设区域，使得位于所述预设区域的所述量子点材料层中的材料发生交联或生成不溶于显影液的盐，或和使得位于所述预设区域的所述有机材料层中的材料发生交联；去除所述基底的非预设区域的所述有机材料层和所述量子点材料层。
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百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 北京京东方技术开发有限公司 量子点膜层图案化方法、量子点发光器件
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