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摘要：本发明公开了一种半导体处理用退火炉装置，涉及退火炉装置技术领域，包括炉体，所述炉体上设置有通风组件，所述通风组件包括进气槽、进气通道、第一喷气槽、第二喷气槽和抽吸槽，所述第二喷气槽设置为多个，所述进气槽开设在炉体的外壁上，且进气槽用于输送冷却气体，所述进气通道开设在炉体的壁体内部，所述进气通道呈圆弧状，且与进气槽连通，所述进气通道的宽度朝远离进气槽的方向逐渐变大，所述第一喷气槽开设在炉体的内壁上。该半导体处理用退火炉装置，通过在炉体上设置通风组件，包括第一喷气槽、第二喷气槽和抽吸槽等结构，确保冷却气体能更快速均匀地带走炉内热量，从而实现半导体材料快速降温的目的。
主权项：1.一种半导体处理用退火炉装置，包括炉体（1），其特征在于：所述炉体（1）上设置有通风组件，所述通风组件包括进气槽（2）、进气通道（3）、第一喷气槽（4）、第二喷气槽（5）和抽吸槽（9），所述第二喷气槽（5）设置为多个，所述进气槽（2）开设在炉体（1）的外壁上，且进气槽（2）用于输送冷却气体，所述进气通道（3）开设在炉体（1）的壁体内部，所述进气通道（3）呈圆弧状，且与进气槽（2）连通，所述进气通道（3）的宽度朝远离进气槽（2）的方向逐渐变大，所述第一喷气槽（4）开设在炉体（1）的内壁上，所述第一喷气槽（4）连通在进气通道（3）的中段，所述抽吸槽（9）开设在炉体（1）的内壁上，所述抽吸槽（9）与第一喷气槽（4）关于炉体（1）的轴心对称分布，所述第二喷气槽（5）开设在炉体（1）的内壁上，所述第二喷气槽（5）倾斜分布，且与进气通道（3）连通，多个第二喷气槽（5）均匀分布在第一喷气槽（4）的两侧，所述第二喷气槽（5）的内径朝远离进气通道（3）的方向逐渐变小，所述炉体（1）上设置有与进气槽（2）、抽吸槽（9）配合的风力组件和连通组件。
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百度查询： 青岛赛尔科技有限公司 一种半导体处理用退火炉装置
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