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一种CsI(Tl)晶体镀膜处理方法及其在n/γ射线检测中的应用 

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摘要:本发明公开了一种CsITl晶体镀膜处理方法及其在nγ射线检测中的应用。本发明使用核素闪烁体对CsITl进行处理,可以达到很高的探测效率,以此材料作为闪烁体探测器探头,可以显著提高探测器的效率。通过应用实施例我们可以清晰的观察到,进行镀膜处理的材料可以显著的探测到更多的PSD值较高的中子信号。相比于其他工艺而言,制作成本低且工艺成熟。

主权项:1.一种CsITl晶体镀膜处理方法,其特征在于包括如下步骤:步骤1:CsITl种子层的制备首先将清洁的衬基置于蒸发钨舟上方的固定支架上,蒸发钨舟距离衬基的垂直距离控制在10-15厘米;在惰性气体保护下,将CsITl样品置于洁净的蒸发钨舟中,开启真空腔阀抽真空,待真空度降低至5.0×10-4-5.0×10-5Pa时开始蒸镀CsITl粉末,获得CsITl种子层;步骤2:CsITl薄膜层的制备待真空度达到1.0-5.0×10-5Pa时,开启蒸镀电源开始蒸镀,获得CsITl薄膜层;步骤3:含B或Li结晶薄膜层的制备启用另一含有LiF或BI3粉末的蒸发钨舟,待真空度降低至5.0-8.0×10-6Pa时,启动蒸镀电源,蒸镀得到含B或Li的结晶薄膜层;至此,关闭蒸镀电源,待系统冷却1-2小时后取出样品,最终得到CsITl异质结结晶薄膜。

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百度查询: 合肥工业大学 一种CsI(Tl)晶体镀膜处理方法及其在n/γ射线检测中的应用

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