买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
摘要:本发明公开了一种二维接触Bi2O2Se半导体薄膜晶体管及其制造方法。该晶体管从下至上,依次包括:衬底、Bi2O2Se薄膜、源电极、漏电极、栅介电层和栅电极,其中源电极、漏电极和栅电极均采用Bi2O2Se薄膜。本发明利用较厚Bi2O2Se的高费米能级简并特性和较薄Bi2O2Se的半导体特性成功构筑了具有优异性能的全二维接触Bi2O2Se薄膜场效应晶体管,与使用常规金属做接触电极的Bi2O2Se场效应晶体管相比,可以显著降低接触电阻,实现更小的关态电流和更高的电流开关比。
主权项:1.一种二维接触Bi2O2Se半导体薄膜晶体管,其特征在于,从下至上,依次包括:衬底、Bi2O2Se薄膜、源电极、漏电极、栅介电层和栅电极。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 南京理工大学 一种二维接触Bi2O2Se半导体薄膜晶体管及其制造方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。