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IGBT及其制造方法 

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摘要:本公开提供一种IGBT及其制造方法,所述IGBT包括:集电极、P1集电区和P2集电区;所述P1集电区与所述P2集电区位于所述集电极的上方,并且所述P1集电区与所述P2集电区间隔排列;所述P2集电区的P型杂质浓度大于所述P1集电区的P型杂质浓度。本公开由于背面集电区进行了二次重掺杂,第一次掺杂浓度P1集电区比较低,第二次掺杂浓度P2集电区比较高,在IGBT器件导通时,集电极的发射效率较高,导通压降较低,关断时,漂移区底部的少子可以被快速的抽取,关断损耗较低,此结构优化了导通损耗和关断损耗的折中。

主权项:1.一种IGBT,其特征在于,所述IGBT包括:集电极、P1集电区和P2集电区;所述P1集电区与所述P2集电区位于所述集电极的上方,并且所述P1集电区与所述P2集电区间隔排列;所述P2集电区的P型杂质浓度大于所述P1集电区的P型杂质浓度。

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