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摘要：本发明涉及一种通过添加能够提高用于形成半导体图案的透过率的树脂而表现与以往的KrF正性光刻胶相比垂直的Vertical轮廓的KrF光源用光刻胶组合物。作为一种图形轮廓改善用化学增幅型正性光刻胶组合物，其特征在于，相比于组合物总重量，包含5至60重量％的聚合物树脂、0.1至10重量％的由化学式1表示的透过率提高树脂添加物、0.05至10重量％的光致酸产生剂、0.01至5重量％的酸扩散抑制剂以及剩余的溶液。本发明，具有提供与以往正性光刻胶相比具备垂直的Vertical轮廓及改善的感光度，同时工艺裕度优异的组合物的效果。

主权项：1.一种图案轮廓改善用化学增幅型正性光刻胶组合物，其特征在于，所述光刻胶组合物能够用248nm波长的光源曝光，整个组合物中，包含5至60重量％的聚合物树脂，0.1至10重量％的由下述化学式1表示的透过率提高树脂添加剂，0.05至10重量％的光致酸产生剂、0.01至5重量％的酸扩散抑制剂以及剩余的溶剂，所述聚合物树脂为选自由含有羟基的苯酚聚合物树脂化学式2至化学式5所组成的组中的一种以上，【化学式1】 其中，所述a、b、c、d为形成共聚物的重复单元的摩尔比且各自为1至9；在前面记载的结构中，R1、R2、R3为选自由甲基R-CH3、乙基R-CH2CH3、丙基R-CH2CH2CH3、丁基R-CH2CH2CH2CH3及它们的组合所形成的结构中一种以上的结构，所述R1、R2、R3各自不同，所述R表示结合部位，【化学式2】由重复单元及形成的树脂，在前述的结构中，R4为选自以下化学式a至化学式p结构中的一种结构，R表示结合部位，【化学式a】 【化学式b】 【化学式c】 【化学式d】 【化学式e】 【化学式f】 【化学式g】 【化学式h】 【化学式i】 【化学式j】 【化学式k】 【化学式l】 【化学式m】 【化学式n】 【化学式o】 【化学式p】 【化学式3】由重复单元及形成的树脂，在前述的结构中，R5与R4相同，且为选自化学式a至化学式p结构中的一种结构，【化学式4】由重复单元及形成的树脂，在前述的结构中，R6和R7为选自化学式a至化学式p结构中的一种或一种以上的结构，【化学式5】由重复单元及形成的树脂，在前述的结构中，R8和R9为选自化学式a至化学式p结构中的一种或一种以上的结构。

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百度查询： 荣昌化学制品株式会社 图案轮廓改善用化学增幅型正性光刻胶组合物