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摘要：本发明涉及一种耐腐蚀磁性FeCoNiCuAl高熵合金薄膜材料及其制备工艺，属于多主元合金薄膜材料领域。薄膜材料的主要成分包括如下原子百分比组成：Fe：15.0‑25.0％，Co：15.0～25.0％，Ni：15.0～25.0％，Cu:15.0～25.0％，Al:15.0～25.0％。制备步骤包括超声清洗基片、真空室抽真空后充氩气、预溅射和溅射四部分。与现有技术相比，本发明所制得的薄膜表面光滑平整，结构处于无序状态，兼具磁性能与耐蚀性能。本发明的制备方法可行性强，重复度高，易于应用和推广。
主权项：1.一种耐腐蚀磁性FeCoNiCuAl高熵合金薄膜材料，其特征在于，其成分由如下原子百分比组成：Fe：15.0-25.0%，Co：15.0～25.0%，Ni：15.0～25.0%，Cu:15.0～25.0%，Al:15.0～25.0%；所述的薄膜材料的厚度为300~600nm；薄膜材料的组织结构为非晶态；所述的薄膜材料通过以下方法制得：（1）准备靶材：选择含有Fe、Co、Ni、Cu、Al五种元素的FeCoNiCuAl高熵合金靶材；（2）准备基底：单面抛光的100Si切成需要的尺寸，清洗吹干后置于磁控溅射真空室样品台上；（3）溅射沉积薄膜3a）预抽真空至2~5Pa，继续抽真空至3×10-4Pa~6×10-4Pa，通入氩气作为工作气体；3b）对靶材进行预溅射，去除高熵合金靶材表面氧化物和污染物；3c）进行溅射：直流磁控溅射，功率为55~75W，基底旋转速度为15~25rpmmin，溅射时间控制在50~70min，溅射结束后即获得沉积有高熵合金薄膜的样品；所述的薄膜材料中各组成元素原子比为Fe：Co：Ni：Cu：Al=1：1：1：0.8：0.8。
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百度查询： 上海大学 一种耐腐蚀磁性FeCoNiCuAl高熵合金薄膜材料及其制备工艺
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