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摘要：本实用新型提供一种扰动电磁场磁过滤电弧复合磁控溅射镀膜系统，涉及真空镀膜技术领域，包括：真空腔、抽气装置、供气装置、磁过滤管道和电弧靶、磁控溅射靶，真空腔用于容纳工件并提供镀膜场所；抽气装置与真空腔能够连通地连接并用于抽取真空腔内的气体以控制真空腔内的真空度；供气装置用于朝真空腔内输送气体；磁过滤管道的第一端与真空腔连通，第二端朝远离真空腔的方向延伸，其上绕设有多组磁过滤线圈组，多组磁过滤线圈组沿着磁过滤管道延伸的方向依次布设，磁过滤线圈组由脉冲电源供电；电弧靶用于蒸发并发生电离，磁控溅射靶用于溅射靶材沉积薄膜。本实用新型提供的方案能够提高镀膜质量。
主权项：1.一种扰动电磁场磁过滤电弧复合磁控溅射镀膜系统，用于给工件镀膜，其特征在于：包括：真空腔，用于容纳工件并提供镀膜场所；抽气装置，与所述真空腔能够连通地连接并用于抽取所述真空腔内的气体以控制所述真空腔内的真空度；供气装置，用于朝所述真空腔内输送气体；磁过滤管道，其第一端与所述真空腔连通，第二端朝远离所述真空腔的方向延伸，其上绕设有多组磁过滤线圈组，多组所述磁过滤线圈组沿着所述磁过滤管道延伸的方向依次布设，所述磁过滤线圈组由脉冲电源供电；电弧靶，靠近所述磁过滤管道的第二端设置，用于蒸发并发生电离；磁控溅射靶，设置有多个，其中一个安装于所述真空腔的中部，其余的多个安装于所述真空腔的边缘，作为溅射阴极，用于溅射靶材沉积薄膜。
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百度查询： 吉林大学 一种扰动电磁场磁过滤电弧复合磁控溅射镀膜系统
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