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摘要：本发明公开一种盖体装置、工艺腔室及半导体工艺设备，其中，所公开的盖体装置包括盖体12、固定座41和盖体座42，所述盖体座42的第一端转动地连接于所述固定座41上，所述盖体座42的第二端可绕所述盖体座42的第一端转动，以使所述盖体座42在第一状态与第二状态之间切换；在所述盖体座42处在所述第一状态下，所述盖体12相对于预设平面倾斜，并可相对于所述盖体座42移动；在所述盖体座42处在所述第二状态下，所述盖体12与所述预设平面平行。上述方案能解决相关技术涉及的工艺腔室存在密封不严的问题。
主权项：1.一种盖体装置，应用于工艺腔室，所述工艺腔室包括腔室主体11，所述腔室主体11设有开口02，其特征在于，所述盖体装置包括盖体12、固定座41和盖体座42，所述盖体座42的第一端转动地连接于所述固定座41上，所述盖体座42的第二端可绕所述盖体座42的第一端转动，以使所述盖体座42在第一状态与第二状态之间切换；在所述盖体座42处在所述第一状态下，所述盖体12相对于预设平面倾斜，从而使得所述盖体12在移动的过程中不会磨损所述腔室主体11与所述盖体12之间的第一密封圈13，所述盖体12可相对于所述盖体座42在避让所述开口02和与所述开口02相对的位置之间移动；在所述盖体座42处在所述第二状态下，所述盖体12与所述预设平面平行，从而压紧所述第一密封圈13。
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百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 盖体装置、工艺腔室及半导体工艺设备
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