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摘要：本发明公开了一种光掩膜基板胶膜层的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：步骤S1：对铬膜坯料进行清洗；步骤S2：用热板对铬膜坯料进行过烘烤；步骤S3：对铬膜坯料涂布增粘剂；步骤S4：对铬膜坯料涂布稀释剂；步骤S5：对铬膜坯料涂布光刻胶；步骤S6：对铬膜坯料进行EBR处理；步骤S7：对铬膜坯料烘烤坚膜处理，最终获得光掩膜基板。此方法通过改变铬膜层表面性质，增加疏水性，提升与光刻胶的润湿性和附着力，减少光刻胶用量，保障均匀性和效果，优化接触角与疏水性能，增强铬膜层与胶层粘附力，确保光刻线条质量，降低脱胶风险，大幅节约成本。
主权项：1.一种光掩膜基板胶膜层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：步骤S1：对铬膜坯料进行清洗；步骤S2：用热板对铬膜坯料进行过烘烤；步骤S3：对铬膜坯料涂布增粘剂；步骤S4：对铬膜坯料涂布稀释剂；步骤S5：对铬膜坯料涂布光刻胶；步骤S6：对铬膜坯料进行EBR处理；步骤S7：对铬膜坯料烘烤坚膜处理，最终获得光掩膜基板。
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