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摘要：本发明涉及基板处理装置、半导体装置的制造方法和基板处理程序。目的为不扩散处理室的粒子而在短时间内将处理室设为高真空状态。本发明具备：处理室；主排气线，其具备从处理室排出气体的第1配管、设置在第1配管的第1开度调整阀和开关阀、设置在第1配管的压力传感器；旁路排气线，其具备与主排气线连接的第二配管和设置在第二配管的第二开度调整阀；控制部，其根据压力传感器的信息调整第二开度调整阀的开度并将处理室减压到第一压力，当达到第一压力时关闭第二开度调整阀并开放开关阀和第一开度调整阀，将处理室减压到第二压力，当处理室达到第二压力时关闭开关阀和第一开度调整阀并调整第二开度调整阀的开度，使处理室成为处理压力。
主权项：1.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置具备：处理室，其处理基板；主排气线，其具备从上述处理室排出气体的第一配管、设置在上述第一配管的第一开度调整阀、设置在上述第一配管的开关阀、设置在上述第一配管且检测上述处理室的压力的压力传感器；旁路排气线，其具备与上述主排气线连接且口径小于上述第一配管的第二配管和设置在上述第二配管的第二开度调整阀；以及控制部，其构成为，能够根据来自上述压力传感器的信息，调整上述第二开度调整阀的开度并且经由上述旁路排气线将上述处理室的压力从大气压减压至第一压力，当达到上述第一压力时使上述第二开度调整阀关闭并开放上述开关阀和上述第一开度调整阀，经由上述主排气线将上述处理室的压力减压至低于上述第一压力的第二压力，当处理压力低于上述第二压力时，关闭上述开关阀以及上述第一开度调整阀，开放上述第二开度调整阀并调整上述第二开度调整阀的开度，使上述处理室的压力成为上述处理压力，当上述处理压力高于上述第二压力时，使上述第二开度调整阀关闭并开放上述开关阀和上述第一开度调整阀，调整上述第一开度调整阀的开度并使上述处理室的压力成为上述处理压力。
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百度查询： 株式会社国际电气 基板处理装置、半导体装置的制造方法和计算机可读取记录介质
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