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申请/专利权人：合光光掩模科技(安徽)有限公司
申请日：2024-11-08
公开（公告）日：2025-01-14
公开（公告）号：CN119310793A
专利技术分类：.相移掩膜〔PSM〕；PSM空白；其制备[2012.01]
专利摘要：本公开提供了一种掩模板的制作方法及掩模板，制作方法包括以下步骤：提供堆叠结构，堆叠结构包括堆叠设置的透明基底材料层、相移材料层和遮光材料层；去除部分透明基底材料层、部分相移材料层和部分遮光材料层，以将第一图案转移至透明基底材料层、相移材料层和遮光材料层，得到第一中间体，第一图案在透明基底材料层形成凹槽；对第一中间体的凹槽执行凹槽深度控制过程，得到第二中间体；去除第二中间体的部分遮光材料层，以将第二图案转移至遮光材料层，得到第三中间体；对第三中间体的相移材料层进行高度控制过程，得到掩模板。本发明的制作方法可对相移度和透过率检测不合格的掩模板及时重新加工校正，有效保证了产品质量和出品效率。
专利权项：1.一种掩模板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：提供堆叠结构，所述堆叠结构包括堆叠设置的透明基底材料层、相移材料层和遮光材料层；去除部分所述透明基底材料层、部分所述相移材料层和部分所述遮光材料层，以将第一图案转移至所述透明基底材料层、所述相移材料层和所述遮光材料层，得到第一中间体，所述第一图案在所述透明基底材料层形成凹槽；对所述第一中间体的所述凹槽执行凹槽深度控制过程，得到第二中间体；去除所述第二中间体的部分所述遮光材料层，以将第二图案转移至所述遮光材料层，得到第三中间体；对所述第三中间体的所述相移材料层进行高度控制过程，得到所述掩模板。
百度查询： 合光光掩模科技(安徽)有限公司 一种掩模板的制作方法及掩模板
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