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申请/专利权人：浙江工业大学
申请日：2024-12-06
公开（公告）日：2025-01-21
公开（公告）号：CN119328658A
专利技术分类：.适用于特殊工件的[2006.01]
专利摘要：本发明属于液态金属抛光领域，公开了一种利用高频交变磁场控制液态金属研抛盘的抛光方法及其抛光装置，包括：将抛光过程按顺序划分为四个阶段，分别为粗抛阶段、中抛阶段、优化阶段、精抛阶段。当液态金属研抛盘加工时间长后表面磨粒会被钝化，采用本发明使得磨粒翻转会提高抛光效率。通过外加高频交变磁场的控制手段可以使得磨粒在与被加工件接触的区域分布更加均匀，可以提高抛光质量。
专利权项：1.一种利用高频交变磁场控制液态金属研抛盘的抛光方法，其特征在于，包括：将抛光过程按顺序划分为四个阶段，分别为粗抛阶段、中抛阶段、优化阶段、精抛阶段；粗抛阶段：电磁线圈不介入工作，粗抛阶段根据被加工件的材质使用较高的工作载荷和较低的液态金属研抛盘转速；中抛阶段：进入中抛阶段使用中等工作载荷和中等液态金属研抛盘转速，同时向电磁线圈中通入恒定电流，使电磁线圈产生一个恒定的磁场；优化阶段：进入优化阶段时使用低工作载荷和低液态金属研抛盘转速进行加工，在优化阶段时，向电磁线圈中通入高频交变电流，使得电磁线圈产生一个高频交变磁场；精抛阶段：加入一冷却液，并进一步降低给予被加工件的正压力，使得液态金属研抛盘的温度快速降低并凝固，同时提高液态金属研抛盘旋转台旋转速度并进一步降低工作载荷。
百度查询： 浙江工业大学 利用高频交变磁场控制液态金属研抛盘的抛光方法及其抛光装置
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