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申请/专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日：2014-06-05
公开（公告）日：2014-08-27
公开（公告）号：CN104004995A
专利技术分类：..真空蒸发[2006.01]
专利摘要：本发明提供一蒸镀装置、蒸镀设备及蒸镀方法，蒸镀装置包括：至少一蒸镀源；以及，一动力装置，接设于所述蒸镀源，所述动力装置驱动所述蒸镀源往复摇摆。本发明将现有线性蒸镀源直线扫描生产方式，改为摇摆方式来达成成膜目的。利用蒸镀源的摇摆，减少其中一个或多个喷口出气率不良时的影响，提高蒸镀气体均匀性，从而提高成膜均匀性。
专利权项：一种蒸镀装置，其特征在于，包括：至少一蒸镀源，具有多个喷口；及一动力装置，接设于所述蒸镀源，所述动力装置驱动所述蒸镀源致使所述蒸镀源往复摇摆。
百度查询： 上海和辉光电有限公司 蒸镀装置、蒸镀设备及蒸镀方法
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皖公网安备 34010402703815号