龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：株式会社日立高新技术
申请日：2003-02-27
公开（公告）日：2004-03-17
公开（公告）号：CN1482666A
专利技术分类：...利用互连在器件中的分离元件间传输电流[2006.01]
专利摘要：一种在电绝缘膜中形成的柱塞部埋入铜形成电传导性镶嵌的镶嵌处理装置，其特征是具有：蚀刻处理low－k材料的蚀刻处理室151A；在真空中运送蚀刻处理后试料的真空运送室153；接收运来试料的接收装置，电压给予装置，和将用电压加速的离子或对加速后的该离子除去带电的中性粒子冲击蚀刻处理面，进行碳化、氮化、硼化、溴化、还原、非晶化或它们的组合的表面改性的铜阻挡层处理的铜阻挡层处理室151B；以及在该铜阻挡层处理后的蚀刻处理面的柱塞部，埋入铜的高真空处理室151C。
专利权项：1一种在电绝缘膜中形成的柱塞部埋入铜形成电传导性镶嵌的镶嵌处理方法，其特征是：蚀刻处理low-k材料以后，在蚀刻处理的同一处理室、或通过真空中运送在另外的处理室，将用电压加速的离子或对加速后的该离子除去带电的中性粒子冲击蚀刻处理面，进行碳化、氮化、硼化、溴化、还原、非晶化或这些的组合的表面改性处理的铜阻挡层处理，将铜埋入具有进行了铜阻挡层处理后的蚀刻处理面的柱塞部。
百度查询： 株式会社日立高新技术 镶嵌处理方法、镶嵌处理装置和镶嵌构造
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号