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申请/专利权人：肖特股份公司
申请日：2007-11-09
公开（公告）日：2008-07-23
公开（公告）号：CN101225514A
专利技术分类：...采用脉冲放电[2006.01]
专利摘要：在使用包括PECVD和PICVD方法的CVD方法的情况下，本发明的目的在于避免杂质并尽可能定时定量精确供应用于目标层系统的过程气体。为此，本发明提供一种涂敷系统和涂敷具有交替层的制品的方法，在这种情况下，将过程气体以交替形式引入到气体混合点并与另一气体混合，然后导入反应室，在反应室中通过产生等离子体来进行沉积。
专利权项：1.一种用于涂敷制品的涂敷系统，所述制品特别具有交替层，优选用于同时涂敷多个具有交替层的制品，所述涂层系统包括：待涂敷制品布置在其中的至少一个反应室，或者是用于形成具有待涂敷制品的反应室的装置；涂敷过程中所使用过程气体的供应器，所述过程气体特别是前驱体气体；电磁能量源，其能以脉冲形式工作以在反应器内激发出等离子体；以及用于控制电磁能量源的控制装置，所述控制装置被设定成用来控制电磁能量源，以便在工作期间电磁能量源输出电磁能量脉冲从而在反应器中产生脉冲式等离子体，其特征在于：所述控制装置被设定成控制电磁能量源，以便电磁能量源输出在时间上间隔开的脉冲，这些脉冲产生具有持续长度为D且脉冲之间的停顿长度为P的等离子体脉冲，对于所述等离子体脉冲，两个时间上相邻的脉冲之间以毫秒作为单位的脉冲停顿P长于Pmin[ms]＝2.5+0.05*V，优选长于Pmin[ms]＝2.5+0.055*V，其中V以毫升为单位表示反应室中的涂敷体积，Pmin[ms]以毫秒为单位表示持续时间。
百度查询： 肖特股份公司 涂敷系统、涂敷方法和涂敷制品
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