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申请/专利权人：日本财团法人高知县产业振兴中心;卡西欧计算机株式会社
申请日：2008-12-17
公开（公告）日：2012-01-11
公开（公告）号：CN101463472B
专利技术分类：...仅沉积金刚石[2006.01]
专利摘要：本发明公开了沉积设备，其包括：用于放置处理对象的第一电极；用于和第一电极产生等离子体的第二电极，第二电极和第一电极相对；和热流控制传热部件，用于从处理对象吸收热量以产生从处理对象的中心区域到边界区域的热流。
专利权项：沉积设备，其包含：用于放置处理对象的第一电极；用于和所述第一电极产生等离子体的第二电极，第二电极和第一电极相对；和热流控制传热部件，该热流控制传热部件安装在用于放置第一电极的放置台和第一电极之间，或该热流控制传热部件是用于放置第一电极的放置台的一部分，并且与处理对象的边界区域的至少一部分相对，从而使得所述处理对象的中心区域和放置台之间的热阻不同于处理对象的边界区域和放置台之间的热阻，以从所述处理对象导走热量，其中在所述中心区域中有助于通过等离子体进行沉积的活性物质的密度高，在所述边界区域中活性物质的密度低于中心区域，以产生从处理对象的中心区域到边界区域的热流，从而形成从处理对象的中心区域到处理对象的边界区域的温度梯度。
百度查询： 日本财团法人高知县产业振兴中心 卡西欧计算机株式会社 沉积设备和沉积方法
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