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申请/专利权人：株式会社汤山制作所;水野彰
申请日：2005-03-29
公开（公告）日：2007-04-11
公开（公告）号：CN1946433A
专利技术分类：..等离子体，即离子化气体[2006.01]
专利摘要：本发明能提供一种既可获得充分的杀菌效果又没有残留气体的无害的杀菌方法及杀菌装置。本发明的杀菌方法，包括：对收容被杀菌物的杀菌室内进行减压的减压工序；向杀菌室内供给过氧化氢的过氧化氢供给工序；向杀菌室内供给臭氧的臭氧供给工序；使供给至杀菌室内的过氧化氢和臭氧扩散以对被杀菌物进行杀菌的杀菌工序；对杀菌室内的气体进行排气的排气工序；以及在杀菌室内产生等离子体、将残留在被杀菌物附近的过氧化氢及臭氧分解生成基团、通过该基团促进杀菌的等离子发生工序。
专利权项：1.一种杀菌方法，将被杀菌物收容在杀菌室内进行杀菌，其特征在于，包括：对所述杀菌室进行减压的减压工序；向所述杀菌室内供给过氧化氢的过氧化氢供给工序；向所述杀菌室内供给臭氧的臭氧供给工序；使供给至所述杀菌室内的过氧化氢和臭氧扩散以对被杀菌物进行杀菌的杀菌工序；对所述杀菌室内的气体进行排气的排气工序；以及在所述杀菌室内产生等离子体的等离子发生工序。
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