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申请/专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日：2018-12-21
公开（公告）日：2019-04-19
公开（公告）号：CN109659249A
专利技术分类：.在制造或处理过程中的测试或测量[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种蚀刻终点监控装置及蚀刻终点监控方法。所述蚀刻终点监控装置包括：入射光源、反射镜及显色板；所述入射光源用于向待蚀刻的基板发射入射光；所述反射镜位于由所述待蚀刻的基板反射所述入射光产生的第一反射光的光路上，用于反射所述第一反射光，产生第二反射光照射至显色板上；所述显色板位于所述第二反射光的光路上，用于显示由所述第二反射光产生的光斑，利用待蚀刻的基板上不同膜层对所述入射光的反射特性的不同，使得显示板的光斑在不同的蚀刻阶段具有不同的强弱状态，从而能够根据所述光斑的强弱变化，快捷有效的监控蚀刻终点，促进蚀刻工艺的开发及蚀刻精度的提升。
专利权项：1.一种蚀刻终点监控装置，其特征在于，包括：入射光源1、反射镜2及显色板3；所述入射光源1用于向待蚀刻的基板发射入射光；所述反射镜2位于由所述待蚀刻的基板反射所述入射光产生的第一反射光的光路上，用于反射所述第一反射光，产生第二反射光照射至显色板上；所述显色板3位于所述第二反射光的光路上，用于显示由所述第二反射光产生的光斑，以根据所述光斑的强弱变化，监控所述待蚀刻的基板的蚀刻终点。
百度查询： 深圳市华星光电技术有限公司 蚀刻终点监控装置及蚀刻终点监控方法
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