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一种半蚀刻引线框架结构及其制造方法 

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申请/专利权人:江苏长电科技股份有限公司

摘要:本发明涉及一种半蚀刻引线框架结构及其制造方法,所述引线框架结构包括第一图形层1,所述第一图形层1上设置有第二图形层2,所述第一图形层1和第二图形层2之间设置有第一抗蚀层4,所述第一图形层1、第二图形层2和第一抗蚀层4外围包封有绝缘材料3,所述第二图形层2表面部分区域设置有第二抗蚀层6,所述第二图形层2表面未设置第二抗蚀层6的区域蚀刻至第一抗蚀层4从而形成半蚀刻凹槽5。本发明解决了传统工艺难以解决的均匀性问题,可以满足客户更多的半蚀刻深度要求,且工艺简单,生产周期短管控成本低,从而大大提高了产品在市场上的竞争优势。

主权项:1.一种半蚀刻引线框架结构,其特征在于:它包括第一图形层1,所述第一图形层1上设置有第二图形层2,所述第一图形层1和第二图形层2之间设置有第一抗蚀层4,所述第一图形层1、第二图形层2和第一抗蚀层4外围包封有绝缘材料3,所述第二图形层2表面部分区域设置有第二抗蚀层6,所述第二图形层2表面未设置第二抗蚀层6的区域蚀刻至第一抗蚀层4从而形成半蚀刻凹槽5。

全文数据:

权利要求:

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