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申请/专利权人：长鑫存储技术有限公司
摘要：本发明公开一种薄膜制备设备及其反应腔室。包括腔体以及设置在所述腔体内的载物平台；所述腔体包括：进气口，设置在所述载物平台的上方，用于输入反应气体；筒形的侧壁，设置有位于同一水平高度、由侧壁的内周壁凹陷形成且环绕所述载物平台分布的多个排气孔；以及排气流道，连通于每个所述排气孔；其中，所述排气流道抽气时，载物平台上方的气体从中间均匀地向四周流动。采用这种反应腔室制备的薄膜更加均匀。
主权项：1.一种薄膜制备设备的反应腔室，其特征在于，包括腔体以及设置在所述腔体内的载物平台；所述腔体包括：进气口，设置在所述载物平台的上方，用于输入反应气体；筒形的侧壁，设置有位于同一水平高度、由侧壁的内周壁凹陷形成且环绕所述载物平台分布的多个排气孔；以及排气流道，连通于每个所述排气孔；其中，所述排气流道抽气时，载物平台上方的气体从中间均匀地向四周流动。
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百度查询： 长鑫存储技术有限公司 薄膜制备设备及其反应腔室
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