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申请/专利权人：河北普兴电子科技股份有限公司
申请日：2020-12-10
公开（公告）日：2021-06-15
公开（公告）号：CN213459698U
专利技术分类：...使用机械装置的，例如卡盘、夹具或夹子[2006.01]
专利摘要：本实用新型提供了一种硅外延基座结构及外延炉，涉及外延炉设备技术领域，包括基座，基座上设有用于容纳衬底的片坑，片坑内设有若干个用于向外周导送气体的排气槽，排气槽的外端延伸至片坑的外周边缘，排气槽的内端与片坑的轴线之间间隔设置。本实用新型提供的硅外延基座结构，在基座的片坑底部设置了若干个排气槽，放入衬底时能够在衬底和片坑间形成用于排出气流的导送通道，避免了衬底与片坑底面之间存在气体造成二者之间的相对滑动；排气槽的设置还增加了片坑表面的粗糙度，进一步降低了衬底在片坑内的滑动，提高了片坑内部温区分布的均匀性，提升了片内厚度和电阻率的一致性，改善了由于片内温度差导致的滑移线问题。
专利权项：1.硅外延基座结构，包括基座，所述基座上设有用于容纳衬底的片坑，其特征在于，所述片坑内设有若干个用于向外周导送气体的排气槽，所述排气槽的外端延伸至所述片坑的外周边缘，所述排气槽的内端与所述片坑的轴线之间间隔设置。
百度查询： 河北普兴电子科技股份有限公司 硅外延基座结构及外延炉
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