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清洁基站、清洁设备及清洁系统专利

发布时间:2022-05-27 10:44:00 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 清洁基站、清洁设备及清洁系统

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申请/专利权人:科沃斯机器人股份有限公司

申请日:2022-01-14

公开(公告)日:2022-05-17

公开(公告)号:CN114504283A

专利技术分类:.未包括在A47L11/02至A47L11/38各组中的机器零件或部件,或不限于这些组其中之一的零件或部件,例如手柄、开关器的布置、外壳、缓冲器、杠杆[2006.01]

专利摘要:本申请实施例提供的清洁基站、清洁设备及清洁系统,其中清洁系统包括:清洁基站,设有污水槽;清洁设备,所述清洁设备能够对接至所述清洁基站,在对接状态下,所述清洁设备的清洁部件位于所述污水槽;在所述污水槽边缘处,所述清洁设备与所述清洁基站之间具有间隙;遮挡装置,活动设于所述清洁基站和所述清洁设备的至少一个,且所述遮挡装置能够在第一状态和第二状态下切换;在所述第一状态下,所述遮挡装置位于遮挡位置,以阻挡所述污水槽内的液体从所述间隙溅出至清洁基站;在所述第二状态下,所述遮挡装置位于避让位置,以露出所述间隙。本申请所提供的技术方案,能够有效改善清洁设备在清洁基站上自清洁时,污水容易飞溅出去的问题。

专利权项:1.一种清洁系统,其特征在于,包括:清洁基站,设有污水槽;清洁设备,所述清洁设备能够对接至所述清洁基站,在对接状态下,所述清洁设备的清洁部件位于所述污水槽;在所述污水槽边缘处,所述清洁设备与所述清洁基站之间具有间隙;遮挡装置,活动设于所述清洁基站和所述清洁设备的至少一个,且所述遮挡装置能够在第一状态和第二状态下切换;在所述第一状态下,所述遮挡装置位于遮挡位置,以阻挡所述污水槽内的液体从所述间隙溅出至所述清洁基站;在所述第二状态下,所述遮挡装置位于避让位置,以露出所述间隙。

百度查询: 科沃斯机器人股份有限公司 清洁基站、清洁设备及清洁系统

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