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申请/专利权人：普思半导体股份有限公司
申请日：2022-04-26
公开（公告）日：2022-10-28
公开（公告）号：CN115248528A
专利技术分类：..掩膜缺陷的修复或校正[2012.01]
专利摘要：一种检测图案单元，包含内图案层及外图案层。内图案层具有至少一个检测图案，外图案层位于内图案层的外侧而成方形，具有沿第一方向及第二方向两两相对的定位检测图案，其中，彼此相对的两个定位检测图案具有相同的节距，相邻的两个定位检测图案的节距可为相同或不同，且彼此相对的两个定位检测图案可沿第一方向及第二方向产生至少二条检测图案连线。通过检测图案单元的设计且以其做为对准图案，以取得经半导体制程后所产生与其相应的线路图案单元间的差异信息，以得到检测结果并进行校正，以提升制程图案的准确性。此外，本发明还提供一种利用前述检测图案单元检测半导体制程的图案检测方法，及用于图案检测方法的图案检测系统。
专利权项：1.一种检测图案单元，供用于半导体图案化制程，其特征在于：包含：内图案层，具有至少一个检测图案；及外图案层，位于所述内图案层的外侧而成方形，具有沿彼此正交的第一方向及第二方向两两相对的定位检测图案，其中，彼此相对的两个定位检测图案具有相同的节距，相邻的两个定位检测图案的节距可为相同或不同。
百度查询： 普思半导体股份有限公司 检测图案单元、图案检测方法及图案检测系统
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