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申请/专利权人：夏普株式会社
申请日：2021-08-12
公开（公告）日：2023-05-09
公开（公告）号：CN116096436A
专利技术分类：.应用气态或气化物质，例如臭氧（A61L9/20优先）[2006.01]
专利摘要：抗菌装置50具备抗菌部60、离子部70以及控制部80。抗菌部60将具有抗菌作用的光、具有抗菌作用的气体以及具有抗菌作用的液体粒子中的至少一种向对象空间14送出。离子部70向对象空间14送出离子。控制部80控制抗菌部60和离子部70。光、气体以及液体粒子的抗菌作用比离子的抗菌作用强。
专利权项：1.一种抗菌方法，其特征在于，所述抗菌方法包括：至少2次抗菌处理工序，将具有抗菌作用的光、具有抗菌作用的气体以及具有抗菌作用的液体粒子中的至少一种向对象空间送出；以及离子处理工序，向所述对象空间送出离子，所述离子处理工序的开始时间包含于从先前的所述抗菌处理工序的开始时间到比下一次所述抗菌处理工序的开始时间靠前的期间，所述离子处理工序的结束时间是比所述先前的抗菌处理工序的结束时间靠后的时间。
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