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申请/专利权人：星源电子科技(深圳)有限公司
摘要：本发明涉及APR技术领域，公开了一种APR及其制备方法，APR包括基底层和基板、设置于基底层和基板的高密度树脂层、设置于基板顶部的压敏层、蚀刻在压敏层并延伸至基板上的图元区域、附图在压敏层且与图元区域连接的耐磨层；APR采用以下步骤进行制备：S1利用涂覆装置在基板顶部旋涂压敏层；S2在压敏层顶部铺设带有与图元区域对应的蚀刻图案的防护层。本发明制备的APR便于检视和安装；耐磨层增强APR耐磨性能，提高APR重复利用率，降低成本提高效益，在制备过程中实现APR压敏层旋涂的上料、清洗、旋涂、下料和干燥操作，提高压敏层旋涂质量，降低不良率，采用底部吸取输送顶部旋涂方式作业，旋涂效率高，降低操作人员的操作难度，提高旋涂效率。
主权项：1.一种APR及其制备方法，其特征在于，所述APR包括基底层和基板、设置于基底层和基板的高密度树脂层、设置于基板顶部的压敏层、蚀刻在压敏层并延伸至基板上的图元区域、附图在压敏层且与图元区域连接的耐磨层；所述APR采用以下步骤进行制备：S1利用涂覆装置在基板顶部旋涂压敏层；S2在压敏层顶部铺设带有与图元区域对应的蚀刻图案的防护层；S3将铺设防护层的基板进行蚀刻、清洗、干燥；S4蚀刻后的基板底部涂覆高密度树脂层，并与基底层粘结；S5粘结后，将防护层去除，并在压敏层顶部涂覆耐磨涂层；所述涂覆装置包括旋涂组件、设置在旋涂组件上游的上料机构、设置在旋涂组件下游的下料机构、设置在上料机构顶部的定位清除机构、设置在上料机构底部的顶升机构、设置在下料机构顶部的烘干机构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 星源电子科技(深圳)有限公司 一种APR及其制备方法
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