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申请/专利权人：之江实验室
申请日：2023-06-14
公开（公告）日：2023-07-14
公开（公告）号：CN116430510A
专利技术分类：
专利摘要：本申请提供一种光波导和光波导设计方法。光波导包括衬底层、包层、弯曲波导层和沟槽。包层设于衬底层上方。弯曲波导层设于包层内。沟槽刻蚀于包层，沟槽自包层的外表面向衬底层的方向凹陷，在衬底层的延伸方向上，沟槽位于弯曲波导层的外侧。本申请提供的光波导通过在弯曲波导层的外侧的包层上刻蚀沟槽，可以补偿局部波前相速度，扩大辐射焦散半径，有效降低光波导的弯曲损耗，且制作工艺简单，成本较低。
专利权项：1.一种光波导，其特征在于，包括：衬底层；包层，设于所述衬底层上方；弯曲波导层，设于所述包层内；沟槽，刻蚀于所述包层，所述沟槽自所述包层的外表面向所述衬底层的方向凹陷，在所述衬底层的延伸方向上，所述沟槽位于所述弯曲波导层的外侧。
百度查询： 之江实验室 光波导和光波导设计方法
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