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一种4H-SiC COMS紫外反相器及其制备方法 

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申请/专利权人:芜湖西晶微电子科技有限公司

摘要:本发明公开了一种4H‑SiCCOMS紫外反相器,该反相器包括n型4H‑SiC外延层,其左侧注入有P离子,以形成p阱区,同时在右侧形成n阱区;栅氧层,位于外延层的下方,并向两侧延伸至部分p阱区和部分n阱区下面;n型源极和p型源,分别位于n阱区和p阱区的下方;栅电极,沿栅氧层的下表面向上延伸至栅氧层内;电极Pad,位于n型源极、p型源极以及栅氧层的下方;紫外感光层,设置在外延层的上表面两端;n型漏极和p型漏极,分别位于n阱区和p阱区上方;若干减反陷光结构,等间隔排布在n型漏极和p型漏极上。该器件结构简单,对工艺要求较低,无需额外的电流处理设备即可直接完成信号输出,降低了对后续的电信号处理要求高。

主权项:1.一种4H-SiCCOMS紫外反相器,其特征在于,包括电极Pad1、栅电极2、栅氧层3、n型源极4、p型源极5、n型4H-SiC外延层6、紫外感光层7、n型漏极8、p型漏极9以及若干减反陷光结构10;其中,所述n型4H-SiC外延层6的左侧注入有P离子,以形成p阱区61,同时在所述n型4H-SiC外延层6的右侧形成n阱区62;所述栅氧层3位于所述n型4H-SiC外延层6的下方,并向两侧延伸至部分所述p阱区61和部分所述n阱区62下面;所述n型源极4和所述位于所述n阱区62的下方,所述p型源极5位于所述p阱区61的下方;所述n型源极4和所述p型源极5分别紧挨所述栅氧层3的左右两侧设置,且厚度与所述栅氧层3的厚度相同;所述栅电极2沿所述栅氧层3的下表面向上延伸至所述栅氧层3内;所述电极Pad1位于所述n型源极4、所述p型源极5以及所述栅氧层3的下方;所述紫外感光层7包括两部分,分别设置在所述n型4H-SiC外延层6的上表面两端,并向中间延伸至覆盖部分所述p阱区61和部分所述n阱区62;所述n型漏极8位于所述n阱区62上方,并全部覆盖所述n阱区62上的紫外感光层7;所述p型漏极9位于所述p阱区61上方,并全部覆盖所述p阱区61上的紫外感光层7;所述若干减反陷光结构10等间隔排布在所述n型漏极8和所述p型漏极9上。

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权利要求:

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