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用于MIP封装的层叠体及制备方法、封装结构及制备方法 

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申请/专利权人:杭州福斯特电子材料有限公司

摘要:本发明属于发光器件技术领域。本发明公开了一种用于MIP封装的层叠体,该层叠体包括光导层和衬度层;衬度层设于光导层的一侧;经1000mJcm2能量照射并在150℃下处理60min后,光导层的玻璃化转变温度大于等于40℃。本发明还公开了一种层叠体的制备方法。本发明还提供了一种封装结构。本发明还公开了一种封装结构的制备方法。本发明中的层叠体刚性较高,切割后端面平整无毛边,能显著提高封装结构在切割后端面的平整度,提高了切割质量和良品率。

主权项:1.一种用于MIP封装的层叠体,其特征在于,包括:光导层;衬度层,所述衬度层设于所述光导层的一侧;经1000mJcm2能量照射并在150℃下处理60min后,所述光导层的玻璃化转变温度大于等于40℃。

全文数据:

权利要求:

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