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申请/专利权人：上海华力微电子有限公司
摘要：本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种lot过货路径优化方法、系统及可读存储介质，方法包括以下步骤：收集lot经过各工艺站点的历史缺陷数据；对所述历史缺陷数据进行预处理，得到模型输入特征；构建预测模型，以所述模型输入特征作为输入，以缺陷数量最少的过货路径为目标函数，对所述预测模型进行训练；利用训练好的预测模型对所述lot的最优过货路径进行预测。通过对所述lot经过各工艺站点的历史缺陷数据进行分析，以及构建过货路径的预测模型，分析出所述lot的最优过货路径，能够为工厂对工艺站点的派货提供最佳路径选择方案，进而提升所述lot的良率。
主权项：1.一种lot过货路径优化方法，其特征在于，包括以下步骤：收集lot经过各工艺站点的历史缺陷数据；对所述历史缺陷数据进行预处理，得到模型输入特征；构建预测模型，以所述模型输入特征作为输入，以缺陷数量最少的过货路径为目标函数，对所述预测模型进行训练；利用训练好的预测模型对所述lot的最优过货路径进行预测。
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权利要求：
百度查询： 上海华力微电子有限公司 lot过货路径优化方法、系统及可读存储介质
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