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Ⅲ-Ⅴ族半导体材料的选区外延生长方法及其应用 

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申请/专利权人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

摘要:本发明公开了一种III‑V族半导体材料的选区外延生长方法及应用。所述方法包括:在半导体材料基底上设置表面经过活化处理的图形化掩膜层,之后在半导体材料基底上外延生长III‑V族半导体材料,并且III‑V族半导体材料在图形化掩膜层表面及半导体材料基底表面能均匀成核。本发明主要是通过活化掩膜层表面来提高III‑V族半导体选区外延的均匀性,可以有效降低选区外延材料的厚度与掺杂的均匀性对于掩膜图形尺寸的依赖,能够在较低外延生长温度下实现高质量的III‑V族半导体选区外延材料的规模量产,很好地克服了现有技术中在III‑V族半导体材料选区外延时存在的薄膜均匀性差、高效掺杂难和刻蚀损伤等缺点。

主权项:1.一种III-V族半导体材料的选区外延生长方法,其特征在于包括:在半导体材料基底上设置表面经过活化处理的图形化掩膜层,之后在所述半导体材料基底上外延生长III-V族半导体材料,并且所述III-V族半导体材料在图形化掩膜层表面及半导体材料基底表面能均匀成核。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 Ⅲ-Ⅴ族半导体材料的选区外延生长方法及其应用

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