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申请/专利权人：台州学院;台州学院温岭研究院

摘要：本发明公开了一种HiPIMS双靶共溅射制备WS2‑Ti复合涂层的装置和方法，该装置包括真空腔体、样品转架、主脉冲电源、从脉冲电源、WS2靶材、Ti靶材和时序控制器，样品转架设置于真空腔体内，WS2靶材和Ti靶材分别固定于真空腔体，WS2靶材和Ti靶材呈八字分布，WS2靶材和Ti靶材分别正对样品转架；主脉冲电源与Ti靶材电连接，从脉冲电源与WS2靶材电连接，时序控制器分别与主脉冲电源和从脉冲电源电连接，时序控制器控制主脉冲电源和从脉冲电源的脉冲时序。该装置可控制两套HiPIMS脉冲电源的脉冲时序，可以有效避免脉冲放电重叠，实现双靶稳定工作，利用该装置制备WS2‑Ti复合涂层，可以改善其耐摩擦磨损性能。

主权项：1.一种HiPIMS双靶共溅射制备WS2-Ti复合涂层的方法，其特征在于包括如下步骤：1、将基体进行清洗后放置于真空腔体内的样品转架上，接着抽真空；2、在室温下，通入工作气体至设定工作压强，打开偏压电源，设置偏压为设定电压，利用辉光等离子体对基体进行清洗；3、设置偏压为设定电压，打开主脉冲电源，预先沉积100-200nm厚度的Ti膜作为打底层；4、打开从脉冲电源，根据设置的双靶脉冲时序进行双靶共溅射，沉积WS2-Ti复合涂层；上述的HiPIMS双靶共溅射制备WS2-Ti复合涂层的方法所采用的装置包括真空腔体、样品转架、主脉冲电源、从脉冲电源、WS2靶材、Ti靶材和时序控制器，样品转架设置于真空腔体内，WS2靶材和Ti靶材分别固定于真空腔体中，WS2靶材和Ti靶材呈八字分布，WS2靶材和Ti靶材分别正对样品转架；时序控制器控制主脉冲电源和从脉冲电源的脉冲时序，可以有效避免脉冲放电重叠，实现双靶稳定工作；主脉冲电源与Ti靶材电连接，从脉冲电源与WS2靶材电连接，时序控制器包括衰减器、D触发器和延时器，主脉冲电源与衰减器连接，衰减器与D触发器的触发端连接，D触发器的复位端接高电平，D触发器的输出端与延时器连接，延时器与从脉冲电源连接。

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